- 연마 후에 대한 sic 클리너

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사후 분쇄 세정제 (- 후에 대한 SIC 클리너)는 자동 가열, 일정한 온도 및 순환 장치, 초음파 청소 장치, 스프레이 빠른 배출 버블 링 오버 플로우 장치, 파이프 라인 및 전기 제어 시스템의 기능을 갖습니다. 이 기능은 PLC에 의해 제어되며 청소 시간 조정, 청소 완료 프롬프트, 온도 제어 조정, 높고 낮은 액체 경보, 오버 플로우 보호, 누설 감지 경보 등의 기능이 있습니다.
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사후 분쇄 세정제 (- 후에 대한 SIC 클리너)는 자동 가열, 일정한 온도 및 순환 장치, 초음파 청소 장치, 스프레이 빠른 배출 버블 링 오버 플로우 장치, 파이프 라인 및 전기 제어 시스템의 기능을 갖습니다. 이 기능은 PLC에 의해 제어되며 청소 시간 조정, 청소 완료 프롬프트, 온도 제어 조정, 높고 낮은 액체 경보, 오버 플로우 보호, 누설 감지 경보 등의 기능이 있습니다.

 

제품 매개 변수

 

01/

1) 생산 흐름 :

하중 (수동) → 초음파 알칼리성 탱크 → HQDR 탱크 → 언로드 (수동)

02/

2) 주요 자료 :

금속 프레임 SU 304, ICE - 크림 PP 보드, 탱크 사용 PPN/SUS316

03/

3) 교통 :

매뉴얼

 

 

제품 기능 및 응용 프로그램

 

연삭 절차 후 SIC 웨이퍼 표면의 제거 원인/입자

 

제품 세부 사항

 

1. 용량 :6 " * 1 카세트 (25 개 PC), 8" * 1 PC 카세트 (25 개 PC)

2. 배치 시간 청소 :1 배치/10 분 이상 (청소 절차 시간이 조정 가능).

 

응용 프로그램 시나리오

 

 

Oct . 2024에서 - 연마 시운전 후 SIC 클리너 및 TianCheng 반도체 고객 사이트에서 작업을 시작합니다.

 

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